石家庄高纯度碳化硅微粉

碳化硅研磨：研磨的目的是去除切割过程中造成的SiC切片表面的刀痕以及表面损伤层。由于SiC的高硬度，研磨过程中必须使用高硬度的磨料（如碳化硼或金刚石粉）研磨SiC切片的晶体表面。研磨根据工艺的不同可分为粗磨和精磨。粗磨主要是去除切割造成的刀痕以及切割引起的变质层，使用粒径较大的磨粒，提高加工效率。精磨主要是去除粗磨留下的表面损伤层，改善表面光洁度，并控制表面面形和晶片的厚度，利于后续的抛光，因此使用粒径较细的磨粒研磨晶片。β-碳化硅，立方晶系结构，与钻石相似，则在低于2000 °C生成。石家庄高纯度碳化硅微粉

碳化硅与石墨材料组合配对时，其摩擦系数比氧化铝陶瓷和硬质合金小，因而可用于高PV值，特别是输送强酸、强碱的工况中使用。我公司生产的SIC-1型碳化硅常压烧结制品，具有密度高、硬度高、生产批量大、可生产复杂形状制品的特点，适用于高性能的密封件中使用，特别是高 PV 值及耐强酸、强碱的工况。而我公司生产的SIC-3型碳化硅陶瓷制品是含石墨的碳化硅材料。由于在碳化硅基体中含有大量的弥散细小的石墨颗粒，与其它材料配对使用时，其摩擦系数非常小，具有良好的自润滑性能，特别适用于制作气密封或有干摩擦工况的密封件中使用，从而使密封件的使用寿命及工作的可靠性提高。超高纯度碳化硅粉制作硬度介于刚玉和金刚石之间，机械强度高于刚玉。

碳化硅单晶系第三代高温宽带隙半导体材料包括黑碳化硅和绿碳化硅，中：黑碳化硅是以石英砂，石油焦和优越硅石为主要原料，通过电阻炉高温冶炼而成。其硬度介于刚玉和金刚石之间，，机械强度高于刚玉，性脆而锋利。绿碳化硅是以石油焦和优越硅石为主要原料，添加食盐作为添加剂，通过电阻炉高温冶炼而成。其硬度介于刚玉和金刚石之间，机械强度高于刚玉。性质：碳化硅的硬度很大，具有优良的导热和导电性能；高温时能抗氧化。碳化硅的性质：化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好、高热导性、高崩溃电场强度及高较大电流密度。

碳化硅应用领域：应用范围：碳化硅主要有四大应用领域，即：功能陶瓷、高级耐火材料、磨料及冶金原料。碳化硅粗料已能大量供应，不能算高新技术产品，而技术含量极高 的纳米级碳化硅粉体的应用短时间不可能形成规模经济。作为磨料，可用来做磨具，如砂轮、油石、磨头、砂瓦类等。作为冶金脱氧剂和耐高温材料。高纯度的单晶，可用于制造半导体、制造碳化硅纤维。主要用途：用于3—12英寸单晶硅、多晶硅、砷化钾、石英晶体等线切割。太阳能光伏产业、半导体产业、压电晶体产业工程性加工材料。作为冶金脱氧剂和耐高温材料。

碳化硅晶片在抛光液的作用下发生化学氧化作用，表面生成化学反应层，随后该反应软化层在磨粒的机械作用下被除去。由于化学机械抛光技术涉及多学科知识，如化学、物理、摩擦、力学和材料学等，因此影响其抛光效果的因素很多，主要为抛光液（磨粒、氧化剂、pH值、添加剂等），抛光垫（硬度、弹性、表面形貌等）和抛光参数（抛光压力、抛光头/抛光盘转速、抛光液流量等）。其中，抛光液是化学机械抛光技术的关键，因此它带来的影响是决定性的。立方碳化硅使表面粗糙度从Ra32～0.16微米一次加工到Ra0.04～0.02微米。台州高纯碳化硅粉末哪家好

用以制成的高级耐火材料，耐热震、体积小、重量轻而强度高，节能效果好。石家庄高纯度碳化硅微粉

碳化硅材料具有高出传统硅数倍的禁带、漂移速度、击穿电压、热导率、耐高温等优良特性，在高温、高压、高频、大功率、光电、抗辐射、微波性等电子应用领域和航天、**、核能等极端环境应用有着不可替代的优势。国内碳化硅单晶供应商，在研发、 技术、 市场开发及商业运作等方面处一定在前面的地位，已成功掌握76mm ( 3英寸)超大宝石级SiC2晶体生长关键技术工艺，达到国际2001年先进水平，国家863项目。市场前景：碳化硅单晶系第三代高温宽带隙半导体材料。石家庄高纯度碳化硅微粉

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